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基于硫醇點(diǎn)擊化學(xué)的新型紫外納米壓印膠  
基于硫醇點(diǎn)擊化學(xué)的新型紫外納米壓印膠
資料類型： PDF文件
關(guān)鍵詞： 納米壓印  紫外光刻膠  點(diǎn)擊化學(xué)  低倍多聚籠狀硅氧烷化合物  
資料大小： 1052K
所屬學(xué)科： 分子表征
來源： 2011年全國(guó)高分子學(xué)術(shù)論文報(bào)告會(huì)（2011.9.24~28，大連）
簡(jiǎn)介：
我們?cè)O(shè)計(jì)并開發(fā)了一種基于硫醇點(diǎn)擊化學(xué)的新型紫外光刻膠，并成功將其應(yīng)用于納米壓印中。該紫外光刻膠主要成分包括含巰基的低倍多聚籠狀硅氧烷化合物（POSS-SH），反應(yīng)性單體甲基丙烯酸芐脂（BMA），及交聯(lián)劑三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯（TMPT）。
作者： 林宏，萬霞，姜學(xué)松，王慶康，印杰
上傳時(shí)間： 2012-02-28 14:35:26
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