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取向體系的二維小角 X 射線散射分析模型及全譜擬合方法  
取向體系的二維小角 X 射線散射分析模型及全譜擬合方法
資料類型： JPG圖片格式
關(guān)鍵詞： 小角  X  射線散射  擇優(yōu)取向  全譜擬合  
資料大小： 140KB
所屬學(xué)科： 分子表征
來源： 2013年全國高分子學(xué)術(shù)論文報(bào)告會(huì)（2013.10.12~16，上海）
簡介：
小角 X 射線散射(SAXS)是研究具有擇優(yōu)取向微結(jié)構(gòu)的重要手段，如纖維內(nèi)的微孔、微纖及晶粒等信息。但是 SAXS 數(shù)據(jù)分析復(fù)雜，解析困難，對于各向同性體系的 SAXS 解析已經(jīng)取得較大進(jìn)展，但擇優(yōu)取向體系的 SAXS 解析仍然是一個(gè)難點(diǎn)。二維分析方法由于能充分利用散射圖上的全部數(shù)據(jù)是當(dāng)前研究的熱點(diǎn)，也是 SAXS 未來發(fā)展的趨勢之一。但現(xiàn)有的二維分析方法還存在描述散射體單一、忽略了取向函數(shù)、方位角、某一維度的尺寸分布等參數(shù)信息，不具有普適性。針對現(xiàn)有二維分析方法的不足，本文構(gòu)建普適性的全參數(shù) SAXS 模型，能描述各種形狀的缺陷、并考慮各個(gè)維度上的取向及尺寸分布等全部參數(shù)；以普適性全參數(shù)SAXS 模型為基礎(chǔ)，研究散射圖譜隨缺陷參數(shù)變化的趨勢，總結(jié)散射圖譜的變化規(guī)律，為定性分析提供理論指導(dǎo)；并建立二維全譜擬合方法，定量解析缺陷參數(shù)。為擇優(yōu)取向體系的SAXS 解析提供一套完整的解決方案。
作者： 朱才鎮(zhèn)， 劉小芳，田宇，馬敬紅，趙寧，王劼，劉劍洪，徐堅(jiān)
上傳時(shí)間： 2013-11-21 14:53:04
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