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濺射工藝及底層對SmCo 薄膜磁性能的影響  
濺射工藝及底層對SmCo 薄膜磁性能的影響
資料類型： PDF文件
關(guān)鍵詞： 磁控濺射  smco  薄膜  控制變量法  矯頑力  cu  底層  
資料大?。?/td> 229K
所屬學(xué)科： 分子表征
來源： 2007年第六屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)
簡介：
用多靶射頻磁控濺射系統(tǒng)在玻璃基片上制備了SmCo磁性薄膜。并采用控制變量法研究了濺射功率、濺射時間以及濺射氣壓等工藝參數(shù)對薄膜磁性能的影響。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，當(dāng)磁性層濺射功率為60W,濺射氣壓為0.5Pa，濺射時間為8min；底層濺射功率為125W，濺射氣壓為0.5Pa，濺射時間為4min時，薄膜的矯頑力高達2.79105。底層對SmCo薄膜的磁性能也有影響，振動樣品磁強計測量結(jié)果表明：相比Cr、Ti底層,以Cu作為底層所得到的SmCo薄膜磁性能更好，薄膜矯頑力分別比用Cr、Ti作底層時高出56%，40%。
作者： 張峰，黃致新，王輝，吳斌，楊曉非，程偉明
上傳時間： 2008-08-21 15:08:40
下載次數(shù)： 39
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