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濺射氣壓對(duì)TbFeCo 磁光薄膜的光學(xué)常數(shù)的影響*  
濺射氣壓對(duì)TbFeCo 磁光薄膜的光學(xué)常數(shù)的影響*
資料類(lèi)型： PDF文件
關(guān)鍵詞： 磁控濺射  tbfeco  薄膜  橢偏光譜  光學(xué)常數(shù)  
資料大?。?/td> 248K
所屬學(xué)科： 分子表征
來(lái)源： 2007年第六屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議暨2007國(guó)際功能材料專(zhuān)題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)
簡(jiǎn)介：
利用直流磁控濺射制備了TbFeCo/Si薄膜，采用可變?nèi)肷浣侨詣?dòng)橢圓偏振光譜儀，測(cè)量了用磁控濺射法制備的TbFeCo/Si薄膜的光學(xué)常數(shù)，測(cè)量能量范圍為1.5～4.5eV。分析了不同氬氣壓強(qiáng)對(duì)磁控濺射制備的TbFeCo/Si磁光薄膜的光學(xué)常數(shù)的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，在低能區(qū)域，樣品的所有光學(xué)常數(shù)均隨壓強(qiáng)增加而增加，受制備工藝影響較大。但在高能區(qū)域，光學(xué)常數(shù)隨壓強(qiáng)的變化相對(duì)說(shuō)來(lái)不再明顯。
作者： 張勇，張晉敏，余平，田華
上傳時(shí)間： 2008-08-21 15:09:57
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