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> 無(wú)反應(yīng)直流濺射中功率對(duì)ZnO:Al 薄膜光電性能與形貌的影響
無(wú)反應(yīng)直流濺射中功率對(duì)ZnO:Al 薄膜光電性能與形貌的影響
無(wú)反應(yīng)直流濺射中功率對(duì)ZnO:Al 薄膜光電性能與形貌的影響
資料類(lèi)型:
PDF文件
關(guān)鍵詞:
ZAO
薄膜
功率
電阻率
透光率
形貌
資料大小:
516K
所屬學(xué)科:
分子表征
來(lái)源:
2007年第六屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議暨2007國(guó)際功能材料專(zhuān)題論壇論文集(11.15-11.19,武漢)
簡(jiǎn)介:
采用氧化鋅鋁陶瓷靶材,在室溫下使用無(wú)氧直流磁控濺射法于載玻片襯底上制備了ZnO:Al透明導(dǎo)電薄膜,研究了濺射功率對(duì)薄膜微觀(guān)結(jié)構(gòu)、電阻率和透光率的影響。結(jié)果表明:薄膜具有六方纖鋅礦結(jié)構(gòu)并沿c軸擇優(yōu)取向生長(zhǎng),沉積速率與濺射功率呈準(zhǔn)線(xiàn)性關(guān)系。濺射功率對(duì)薄膜的電阻率和表面形貌有顯著影響,當(dāng)功率為80W和120W時(shí),薄膜的電阻率值為7.210-3Ωcm和2.310-3Ωcm,表面形貌分別為光滑與織構(gòu)化。但濺射功率對(duì)薄膜的透光率影響不大,薄膜在可見(jiàn)光區(qū)的平均透光率均在90%左右。
作者:
許積文,王華,任明放,成鋼
上傳時(shí)間:
2008-09-09 17:09:30
下載次數(shù):
30
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