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PDF文件
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| 關(guān)鍵詞： |
立方氮化硼薄膜 表面 X射線光電子能譜 |
| 資料大?。?/td>
| 247K |
| 所屬學(xué)科： |
分子表征 |
| 來源： |
2004年第五屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會議（9.12-9.16，北京.秦皇島） |
| 簡介： |
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研究立方氮化硼薄膜表面的性質(zhì)對于研究立方氮化硼薄膜的成核機(jī)理和應(yīng)用，具有重要的價(jià)值。本文用XPS對立方氮化硼薄膜表面進(jìn)行研究，并對有關(guān)問題進(jìn)行了討論。XPS分析表明，立方氮化硼薄膜表面除了B、N外，還含有C和O。從XPS譜圖計(jì)算得到含有立方相的氮化硼薄膜的N/B為0.90，較接近于氮化硼的理想化學(xué)配比1:1；不含立方相的氮化硼薄膜的N/B為0.86，離氮化硼的理想化學(xué)配比1:1較遠(yuǎn)。計(jì)算表明立方氮化硼薄膜的頂層六角相的厚度約為0.8nm。 |
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| 作者： |
鄧金祥 陳浩 陳光華 劉鈞鍇 宋雪梅 朱秀紅 王波 嚴(yán)輝
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| 上傳時(shí)間： |
2007-07-06 15:58:47 |
| 下載次數(shù)： |
617 |
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2
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