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氫、氧等離子體處理對(duì)氮化硼薄膜場(chǎng)發(fā)射特性的影響  
氫、氧等離子體處理對(duì)氮化硼薄膜場(chǎng)發(fā)射特性的影響
資料類(lèi)型： PDF文件
關(guān)鍵詞： 氮化硼薄膜  場(chǎng)發(fā)射  表面處理  閾值電場(chǎng)  發(fā)射電流  
資料大小： 106K
所屬學(xué)科： 分子表征
來(lái)源： 2004年第五屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議（9.12-9.16，北京.秦皇島）
簡(jiǎn)介：
用RF磁控濺射的方法在Si（100）基底上沉積了納米氮化硼薄膜，然后分別用氫、氧等離子體對(duì)薄膜表面進(jìn)行了處理，用紅外光譜、原子力顯微鏡、光電子能譜以及場(chǎng)發(fā)射試驗(yàn)對(duì)薄膜進(jìn)行了研究，結(jié)果表明氫等離子體使BN薄膜表面NEA增加，閾值電場(chǎng)降低，發(fā)射電流明顯增大。氧等離子體處理對(duì)BN薄膜的場(chǎng)發(fā)射特性影響不大，只是發(fā)射電流略有降低，這只能是由于氧化層存在的原因。
作者： 李衛(wèi)青 顧廣瑞 李英愛(ài) 何志 馮偉 劉麗華 趙春紅 趙永年
上傳時(shí)間： 2007-07-11 14:01:51
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