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國(guó)內(nèi)同步輻射發(fā)展?fàn)顩r及其在高分子結(jié)構(gòu)研究中可能的應(yīng)用  
國(guó)內(nèi)同步輻射發(fā)展?fàn)顩r及其在高分子結(jié)構(gòu)研究中可能的應(yīng)用
資料類型： PDF文件
關(guān)鍵詞： 同步輻射  高分子結(jié)構(gòu)  散射  譜學(xué)  
資料大?。?/td> 119K
所屬學(xué)科： 分子表征
來源： 2007年全國(guó)高分子學(xué)術(shù)論文報(bào)告會(huì)（10.9-10.13，成都）
簡(jiǎn)介：
本文簡(jiǎn)要介紹我國(guó)同步輻射的發(fā)展現(xiàn)狀和建設(shè)目標(biāo)。北京同步輻射由于與正負(fù)電子對(duì)撞機(jī)共用，每年只供光2到3個(gè)月。合肥光源是同步輻射專用光源，全年供光，光源主要在軟X射線和真空紫外段。正在建設(shè)的上海光源是第三代同步輻射光源，主要以硬X射線為主。結(jié)合三個(gè)同步輻射裝置，國(guó)內(nèi)高分子界用戶完全可以在上面開展特色研究。合肥光源可以提供近邊吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)光譜，軟X射線顯微，顯微紅外成像和真空紫外圓二色光譜，通過高分子譜學(xué)及成像研究高分子集聚態(tài)結(jié)構(gòu)，上海光源在建一條小角和廣角X射線聯(lián)用實(shí)驗(yàn)站，配上高分子材料加工的原位裝置，可以研究高分子加工過程中的物理問題。本文簡(jiǎn)要介紹這些實(shí)驗(yàn)站的原理和配置條件，供高分子用戶參考，并希望高分子用戶為實(shí)驗(yàn)站建設(shè)提建議，共同建設(shè)針對(duì)高分子研究的實(shí)驗(yàn)站。
作者： 李良彬 王劼
上傳時(shí)間： 2007-12-20 14:33:43
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ziziicecream    2010-10-26 17:33:14
頂頂頂頂頂。真是幫了大忙了。。。
fengxm2010    2010-04-09 11:06:06
很不錯(cuò)的文章，找了好久，終于找到了
lixiaoyun    2010-04-09 9:57:24
文章不錯(cuò)，研究研究
frankfudan    2009-05-22 15:21:09
ggggggggggggg
cuidegang    2008-12-14 20:37:23
很好，好好好哦啊好哦啊好哦啊哈！
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