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一種新型反應(yīng)室的分析與實(shí)驗(yàn)  
一種新型反應(yīng)室的分析與實(shí)驗(yàn)
資料類型： PDF文件
關(guān)鍵詞： 粉體表面刻蝕  硅粉提純  振動陰極  
資料大小： 259K
所屬學(xué)科： 分子表征
來源： 2007年第六屆中國功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會議暨2007國際功能材料專題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)
簡介：
對振動陰極上粉體的運(yùn)動分析表明粉粒在陰極表面停留的時間與陰極表面傾斜角、氣體反吹速度和粉粒大小等有關(guān)，其停留時間可達(dá)10min以上。用這種等離子反應(yīng)室對硅粉刻蝕，可在硅粉流經(jīng)反應(yīng)室一次即可刻蝕200nm的表面厚度。這意味著純化硅粉的任務(wù)能一次完成。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明新反應(yīng)室比常規(guī)反應(yīng)室具有很大的優(yōu)點(diǎn)。
作者： 尹盛，王敬義，趙亮，趙伯芳
上傳時間： 2008-05-16 15:14:28
下載次數(shù)： 60
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