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冷等離子體中的粉體研究

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冷等離子體粉體表面刻蝕硅粉純化

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所屬學(xué)科：

分子表征

來(lái)源：

2007年第六屆中國(guó)功能材料及其應(yīng)用學(xué)術(shù)會(huì)議暨2007國(guó)際功能材料專(zhuān)題論壇論文集(11.15-11.19，武漢)

簡(jiǎn)介：

介紹了在冷等離子體中粉體研究的幾個(gè)重要成果，分析了粉體在兩種反應(yīng)室結(jié)構(gòu)中的運(yùn)動(dòng)、沉降時(shí)間及刻蝕狀況。理論分析和實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明帶振動(dòng)陰極的反應(yīng)室在粉體表面刻蝕方面比傳統(tǒng)陰極結(jié)構(gòu)的反應(yīng)室要優(yōu)越得多。研究表明冷等離子體對(duì)硅粉純化具有應(yīng)用前景。

作者：

王敬義，尹盛，趙亮，趙伯芳

上傳時(shí)間：

2008-05-19 15:45:59

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