過渡金屬二硫族化合物(Transition-metal dichalcogenides, TMDs)作為范德華(van der Waals, vdW)層狀材料的重要成員,過去十幾年來受到研究人員的廣泛青睞。目前,大量研究集中于單層vdW材料的合成,相比而言,納米片有著單層晶體所缺乏的獨(dú)特性質(zhì),包括豐富的離子通道,大量的活性位點(diǎn),高載流子密度以及較大的光譜響應(yīng)范圍等。然而,由于vdW材料缺少面外化學(xué)鍵,使得相鄰層之間的作用力極弱,進(jìn)而導(dǎo)致厚層納米片的化學(xué)氣相生長(zhǎng)存在較大挑戰(zhàn)。此外,傳統(tǒng)化學(xué)氣相輸運(yùn)或化學(xué)氣相沉積法(Chemical vapor deposition, CVD)一般是基于氣-固-固(Vapor-Solid-Solid, VSS)機(jī)理,高擴(kuò)散性的氣態(tài)源往往會(huì)導(dǎo)致隨機(jī)形核及晶體隨機(jī)生長(zhǎng),使得所得晶體在電子或光電等要求陣列器件的應(yīng)用中受到極大限制。
圖一、自錨定范德華堆疊生長(zhǎng)與表面自限生長(zhǎng)的過程對(duì)比
圖二、自錨定范德華堆疊生長(zhǎng)所得納米片的結(jié)構(gòu)表征
圖四、a) 高溫原位可視化設(shè)備及源物質(zhì)的自組裝過程截圖;b-e) 納米片結(jié)構(gòu)表征;f-i)基于WSe2納米片的光電陣列器件展示及光電性能測(cè)試
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論文信息:
https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/adma.202407586
Self-Anchored Van-Der-Waals Stacking Growth of Transition-Metal Dichalcogenide Nanoplates
Dingding Jiang#, Ya-Nan Tang#, Di Wang, Xiangpeng Xu, Jiang Sun, Rong Ma, Wenhao Li, Zhiya Han, Yunqi Liu*, Dacheng Wei*
Advanced Materials, 2024, DOI: 10.1002/adma.202407586
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