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    有序圖案構筑與響應功能是材料科學、信息科學和生命科學等多學交叉的新方向。高分子微納圖案化不僅能夠滿足微加工技術發(fā)展趨勢的要求，而且具有突出優(yōu)勢。因此，被認為是未來發(fā)展不依賴于傳統(tǒng)刻蝕技術的微加工技術的新方向。高分子薄膜去潤濕誘導有序圖案構筑是一種"自下而上"制備大面積圖案的有效方法。

    中國科學院長春應化所高分子化學與物理國家重點實驗室韓艷春課題組圍繞“高分子薄膜去潤濕誘導有序圖案構筑”這一重要主題展開了多年研究，取得了系列研究成果。近期，該課題組為高分子權威綜述雜志《高分子科學進展》（Longjian Xue and Yanchun Han, Pattern formation by dewetting of polymer thin film, Progress in Polymer Science， 2011, 36 (2), 269-293）撰寫了相關綜述。

    綜述系統(tǒng)介紹了高分子薄膜去潤濕機理，然后從理論和實驗兩方面就高分子薄膜去潤濕誘導有序圖案構筑展開了廣泛而深入的討論，包括物理、化學圖案化基底誘導的去潤濕圖案化、物理受限條件下的去潤濕圖案化、薄膜表面拓撲結構誘導的去潤濕圖案化和三相線運動過程誘導的去潤濕圖案化等。最后就高分子薄膜潤濕誘導圖案化技術與其他技術的交叉結合以及應用進行了深入討論，并對高分子薄膜去潤濕誘導有序圖案構筑的未來發(fā)展進行了展望。