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能夠在一個一般性表面結(jié)構(gòu)中識別所有單個原子（包括缺陷）的成像方法，對于材料分析將是非常有用的工具。Ondrej Krivanek及其同事已開發(fā)出這樣一種方法。他們在一個為低電壓操作進(jìn)行了優(yōu)化的經(jīng)過像差校正的掃描透射電子顯微鏡中采用了“環(huán)形暗場”（ADF）成像。該方法能以原子分辨率成像，還能識別原子的化學(xué)類型。這個系統(tǒng)被用來檢查單層的氮化硼，顯示了三種類型的取代，涉及碳和氧雜質(zhì)原子。對觀測數(shù)據(jù)進(jìn)行仔細(xì)分析，使研究人員能夠構(gòu)建原子結(jié)構(gòu)的一個詳圖，并識別出四種不同類型的原子。本期封面所示為對氮化硼表面所作的離散傅里葉變換模擬，所觀察到的取代雜質(zhì)疊加在實驗圖像上。原子的代號為B紅色、C黃色、N綠色和O藍(lán)色。