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  氣體分離是許多工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中重要的環(huán)節(jié)。傳統(tǒng)的氣體分離技術(shù)例如低溫蒸餾能耗極高，不符合現(xiàn)今低碳減排的總體趨勢(shì)。相比而言，膜分離技術(shù)具有低能耗、占地小以及設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單等優(yōu)勢(shì)，是未來(lái)工業(yè)氣體分離的高效替代方案。然而，目前膜技術(shù)在氣體分離領(lǐng)域的應(yīng)用所占的比重仍然較小。這是因?yàn)槌Ｓ玫母叻肿幽さ臒o(wú)序分子結(jié)構(gòu)限制了其氣體分離性能的進(jìn)一步提升。

  金屬有機(jī)框架（MOF）是一種具有均勻可調(diào)孔道結(jié)構(gòu)的高孔隙率多孔材料。將MOF作為填料加入傳統(tǒng)高分子基質(zhì)所形成的混合基質(zhì)膜(MMM)理論上能顯著提升純高分子膜的氣體分離性能。然而，文獻(xiàn)中所報(bào)道的MMMs的實(shí)際氣體滲透性能與純MOF膜相比仍然相去甚遠(yuǎn)。其根本原因在于氣透性較差的高分子基質(zhì)將高氣透性的MOF顆粒分隔開(kāi)來(lái)，從而形成了整張膜的氣透性瓶頸。盡管增加MOF的負(fù)載量至40wt%以上能減小MOF顆粒間距，形成氣體傳質(zhì)的連續(xù)通路，高M(jìn)OF負(fù)載量的膜往往不具備足夠的機(jī)械強(qiáng)度以適應(yīng)實(shí)際應(yīng)用場(chǎng)景對(duì)材料的要求。因此，在不影響膜力學(xué)性能的前提下，構(gòu)建具有連續(xù)MOF通路的MMM極具挑戰(zhàn)。

  近日，上�？萍即髮W(xué)李濤教授團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)并開(kāi)發(fā)了一類(lèi)相分離混合基質(zhì)膜(PS-MMMs)，通過(guò)控制聚合物的相分離，能夠在較低的負(fù)載量下實(shí)現(xiàn)MOF域的相互連接并貫穿整張膜，巧妙地解決了這一困境。通過(guò)共混兩種不互溶的聚酰亞胺高分子，MOF顆粒能夠選擇性地進(jìn)入其中一個(gè)聚酰亞胺相，通過(guò)對(duì)MOF負(fù)載量、聚合物配比、聚合物組成、溶劑蒸發(fā)速率等參數(shù)的優(yōu)化，MOF的局部堆積密度最高可達(dá)53 v/v%，平均顆粒間距約為20 nm。在只有19wt%的MOF負(fù)載量形成了高通量的MOF滲透網(wǎng)絡(luò)，同時(shí)另一聚酰亞胺相呈現(xiàn)良好的連續(xù)性，作為結(jié)構(gòu)骨架為整張膜提供機(jī)械支撐。這種PS-MMM的CO₂滲透性是純聚合物膜的6.6倍，而CO₂/N₂和CO₂/CH₄選擇性基本不變。而未分相的MMM在30 wt%負(fù)載量下，CO2滲透性也只是純聚合物膜的3.9倍。另外，得益于其獨(dú)特的共連續(xù)形態(tài)，在相同MOF負(fù)載量下，PS-MMM的延展性也明顯優(yōu)于未分相MMM。

圖3. 相分離混合基質(zhì)膜的機(jī)械及氣體分離性能。（A）純高分子膜、未分相混合基質(zhì)膜和分相混合基質(zhì)膜的斷裂拉伸測(cè)試及其在3 bar和35℃下（B）CO₂/N₂（D）CO₂/CH₄氣體分離性能。（C）在3bar和35℃下CO₂和CH₄在P4, nPS-20和PS-19中的溶解度和擴(kuò)散系數(shù)。

  論文鏈接：https://www.science.org/doi/10.1126/sciadv.adf5087